ALOHA™ Precursor-Versorgung
Die ALOHA-Produktlinie beinhaltet alle CVD und ALD Precursor für den Bereich unter 130nm, lieferbar in Kapazitäten, welche von mehreren Tonnen von low-k Material bis zu wenigen Gramm für Anwendungen unter 45nm in der Forschung reichen, sowie ein maßgeschneidertes Entnahmesystem und hochwertige Kannen für die Precursor.
Die Precursor der ALOHA-Produktlinie werden in speziellen Gebinden in UHP-Qualität geliefert, welche von OEMs qualifiziert wurden und extrem strengen Spezifikationen standhalten. Darüber hinaus nutzen wir die Qualitätsexpertise des weltweit tätigen Analysenservice der Air Liquide-Tochtergesellschaft Balazs.
Im Rahmen der ALOHA-Produktlinie wurden auch eigene, geschützte Prozesslösungen entwickelt, wie z.B. AHEAD und TSA für die Abscheidung von Low Temperature silicon nitride, TDEAA als ein non-pyrophoric TMA Substitut oder ToRuS für C-free, high adhesion Ru ALD.
Wir bieten Ihnen die folgenden Precursor zum Einsatz in der Halbleiter- & Photovoltaik-Industrie. ...weiter
Wir bieten Ihnen Precursor-Behälter in dem von Ihnen benötigten Design an. ...weiter
Das CANDI-System für CVD- und ALD-Prozesse bietet eine sehr hohe Zuverlässigkeit bei einer Entnahme von Precursorn sehr niedrigen Dampfdrucks. ...weiter
Über die Chemikalien hinaus bieten wir Ihnen auch Systeme zur Precursor-Versorgung.
Zur Klärung Ihrer Detailfragen stehen Ihnen unsere fachkundigen Spezialisten jederzeit gerne zur Verfügung. Sprechen Sie uns an!
